ZHCSY89 May 2025 DRV8376-Q1
PRODUCTION DATA
可調(diào)柵極驅(qū)動(dòng)電流控制主動(dòng)管理半橋中的 MOSFET,以實(shí)現(xiàn)壓擺率控制。MOSFET VDS 壓擺率對(duì)優(yōu)化輻射發(fā)射、二極管恢復(fù)尖峰的能量和持續(xù)時(shí)間以及寄生引起的開(kāi)關(guān)電壓瞬態(tài)有著關(guān)鍵影響。內(nèi)部 MOSFET 的柵極電荷的速率主要決定這些壓擺率,如圖 7-10 所示。
圖 7-10 壓擺率電路實(shí)現(xiàn)在硬件型號(hào)中,每個(gè)半橋的壓擺率可以通過(guò) SLEW 引腳進(jìn)行調(diào)整,在 SPI 器件型號(hào)中則使用 SLEW 位進(jìn)行調(diào)整。每個(gè)半橋都可以選擇為 1.1V/ns、0.5V/ns、0.25V/ns 或 0.05V/ns 的壓擺率設(shè)置。壓擺率根據(jù) OUTx 引腳電壓的上升時(shí)間和下降時(shí)間計(jì)算得出,如圖 7-11 所示。
圖 7-11 壓擺率時(shí)序